第134章 “光刻机”是拦路虎?系统有办法

就在这令人窒息的压抑中,林枫猛地抬起头,眼中闪过一丝决绝的光芒。他不能透露系统的存在,但他可以引导方向!

“大家说的都很对,很难,难如登天。”林枫的声音打破了沉默,吸引了所有人的目光,“但是,大家有没有想过,我们为什么一定要沿着别人设定的路线去爬那座绝壁?”

他站起身,走到白板前,拿起笔,重重地画了一个叉,将代表传统EUV光刻技术的路线图盖住。

“EUV光刻,利用波长13.5纳米的极紫外光,通过无比复杂的反射镜系统进行投影光刻,这条路,是ASML(阿斯麦)和它背后的整个西方技术联盟,投入了数千亿美元、数十年时间才走通的。我们再去重复,不仅时间来不及,专利壁垒也能把我们困死!”

“那……那我们能怎么办?”王胖子下意识地问。

林枫的目光扫过在场每一个人,语气带着一种引导性的亢奋:“换道超车! 为什么一定要用光?为什么一定要用那么短的波长?为什么一定要那么复杂的反射镜系统?”

他接连几个问题,把所有人都问懵了。

苏小远若有所思:“你的意思是……寻找替代光刻的技术路径?”

“没错!”林枫肯定道,他开始将脑海中那些来自系统数据库的、关于其他维度文明可能使用的微观加工技术的残缺信息,用地球科学能够理解的语言进行“转译”和“包装”。

“大家想想,‘织网’系统的核心是什么?是数据,是信息!”林枫在白板上写下“信息”两个大字,“芯片的本质是什么?是将设计好的电路图,‘翻译’成硅晶圆上的物理结构。这个过程,是否一定要通过‘光’这个‘翻译官’?”

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他顿了顿,抛出更加惊人的设想:“有没有可能,我们直接跳过‘光’这个中间环节,用一种更直接、更高效的方式,将电路信息‘写入’硅晶圆?比如……利用精确控制的能量束(粒子束、场发射等)进行直接‘雕刻’? 或者,利用自组装、纳米压印等 bottom-up(自下而上)的技术,从原子分子层面直接‘生长’出我们需要的结构?”

这些概念并非林枫首创,在地球科研界也早有研究,但大多被认为是远水不解近渴的“未来技术”。然而,从林枫口中说出,结合他之前一次次创造奇迹的“祖传手稿”,却让在座的专家们心中掀起了惊涛骇浪!

“直接写入?自组装?”那位老专家眼睛瞪大了,“林总,这些方向理论上可行,但面临的分辨率、速度、成本、一致性……问题比EUV恐怕只大不小啊!”